我國在潔凈工程的發(fā)展狀況

2016-06-23 07:52:16 作者：admin 出處：科瓦特

我國的潔凈技術(shù)和設(shè)備與國外國家相比相距是明顯的，我國1965年才開始生產(chǎn)的HEPA，經(jīng)國外晚了

十五年。1975年開始生產(chǎn)的光散射塵埃粒子計數(shù)器比國外晚了二十年。0.1微米潔凈技術(shù)和設(shè)備在上先

進國家已成為成熟技術(shù)，我國則剛剛起步。

中國潔凈室

世界各工業(yè) 國家為適應超凈技術(shù)的發(fā)展，對大量使用的高效過濾器的研究從未中斷，幾年來一起在開

發(fā)不同結(jié)構(gòu)不同性能的新產(chǎn)品，美國自1979年開始研制0.1微米ULPA過濾器，1984攫美國AAF公司開始生產(chǎn)

0.1微米無隔板ULPA過濾器，目前，為0.1微米ULPA過濾器在美國 AAF公司、FLANDERS公司和CAMBRIDG

公司已形成商品生產(chǎn)。日本也已成為世界上生產(chǎn)0.1微米ULPA過渡器廠家最多的國家，品種繁多，產(chǎn)品系列

化，尤其是低壓損型0.1微米ULPA過濾器的開發(fā)成功解決了初阻力大的技術(shù)難題。市場對高效空氣過渡

器的需要量很大，且每年均有增長，目前日本每年銷售超過100萬臺，按每臺平均價格200美元計算，銷售

額達2億美元。我國高效空氣過渡器的需要量已接近每年10萬臺，占市場的2%~4%，但至今還沒有

0.1微米ULPA過渡器生產(chǎn)，用于越大規(guī)模集成電路生產(chǎn)潔凈廠房及各種高科技領(lǐng)域潔凈廠房的0.1微米

ULPA過濾器目前還依賴進口。

在潔凈室建設(shè)規(guī)模的技術(shù)水平上，我國與國家差距更大。日本清水建設(shè)公司一家，1982年到1987年

期間承建的潔凈室面積達81.8萬平方米，而這期間，我國一年承建的潔凈室總面積還不到10萬平米，但八五

期間有較大發(fā)展，1993年承建潔凈室總面積已接近15萬平方米。美國的潔凈室建設(shè)規(guī)模更大，1998年統(tǒng)計

已達188.5萬平方米。在潔凈室工程技術(shù)水平上，80年代末期，國外已大量建成0.1微米級的超凈室，1987年

日本三洋新瀉工場建成十級潔凈廠房3000平方米，NIT原木則建成了四個1000平方米控制0.1微米塵埃的千級

廠房，換氣次數(shù)高達300次/分。

美國在臺灣的TSMCS新廠已建成第四代管道式潔凈室總面積達10000平方米。我國使用的0.1微米十級潔

凈室主要依賴從國外進口。由于高潔凈級別的潔凈室造價十分昂貴，0.1微米十級潔凈室每平方米造價高達

1萬美元以上。在大規(guī)模集成電路制造裝備的投資中潔凈廠房占有相當高的比例，這與集成電路工藝不斷更

新，產(chǎn)品更新?lián)Q代周期越來越快的發(fā)展趨勢不相適應，嚴重制約了大規(guī)模集成電路技術(shù)的發(fā)展。美國

ASYAT公司、德國MW公司發(fā)展的使用隔離技術(shù)的亞微米環(huán)境系統(tǒng)設(shè)備和技術(shù)在近幾年中得到廣泛采用。

該項最新的潔凈技在100級潔凈度的潔凈廠房中，采用工藝設(shè)備局部使用隔離技術(shù)的微環(huán)境，把投資比例

壓縮到高級別的微環(huán)境，消除了操作者與工藝設(shè)備運行的二次污染源生產(chǎn)對集成電路成品率和可靠性的影

響作用。

潔凈技術(shù)和裝備的市場十分巨大，日本到80年代末、90年代初潔凈技術(shù)和設(shè)備的銷售額已突破35億

美元。美國和西歐等國家潔凈設(shè)備的基礎(chǔ)部件的銷售額憶達73億美元。據(jù)中國電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會

統(tǒng)計，我國主要八家最大的凈化設(shè)備廠的銷售額在1990年為8217萬無，還不足1億，1993年達到14495萬元，

占市場銷售額的0.34%。但隨著我國高新技術(shù)的迅速發(fā)展和微電子工業(yè)、光纖工業(yè)、液晶顯示工業(yè)及光

電器件工業(yè)、生物工程、醫(yī)藥工業(yè)的發(fā)展，我國潛在的巨大的潔凈技術(shù)產(chǎn)品市場，以每年40%~50%的增長

速度在增加。