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 　　一、潔凈室的定義

　　潔凈室，英文名CleanRoom，根據(jù)國人的語方習(xí)慣也稱為無塵間、無塵房、無塵室、潔凈間、潔凈房、凈化房、凈化室、凈化間、清潔房等。潔凈室的主要功能為控制室內(nèi)污染，沒有潔凈室，污染敏感零件不可能批量生產(chǎn)。在FED-STD-2里面，潔凈室被定義為具備空氣過濾、分配、優(yōu)化、構(gòu)造材料和裝置的房間，其中特定的規(guī)則的操作程序以控制空氣懸浮微粒濃度，從而達到適當(dāng)?shù)奈⒘崈舳燃墑e。潔凈程度和控制污染的持續(xù)穩(wěn)定性，是檢驗潔凈室質(zhì)量的核心標(biāo)準(zhǔn)，該標(biāo)準(zhǔn)根據(jù)區(qū)域環(huán)境、凈化程度等因素，分為若干等級，常用的有國際標(biāo)準(zhǔn)和國內(nèi)區(qū)域行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。詳見：我公司《空氣凈化工程介紹》。
 

　　潔凈室是指將一定空間范圍內(nèi)之空氣中的微粒子、有害空氣、細菌等之污染物排除，并將室內(nèi)之溫度、潔凈度、室內(nèi)壓力、氣流速度與氣流分布、噪音振動及照明、靜電控制在某一需求范圍內(nèi)，而所給予特別設(shè)計之房間。亦即是不論外在之空氣條件如何變化，其室內(nèi)均能俱有維持原先所設(shè)定要求之潔凈度、溫濕度及壓力等性能之特性。

　　潔凈室相對無塵車間、凈化廠房來說，其體積量大小要小很多，通常是指單體房間的凈化工程，潔凈室是空氣無塵凈化工程中的一個應(yīng)用很廣泛的項目。

　　二、潔凈室的應(yīng)用行業(yè)

　　凈化工程是一個應(yīng)用行業(yè)非常廣泛的基礎(chǔ)性配套產(chǎn)業(yè)，在電子信息、半導(dǎo)體、光電子、精密制造、醫(yī)藥衛(wèi)生、生物工程、航天航空、汽車噴涂等眾多行業(yè)均有應(yīng)用，并根據(jù)行業(yè)的精密與無塵要求，等級差別也較大。

　　潔凈室容量體積相對較小，故潔凈室基本應(yīng)用在上述凈化應(yīng)用行業(yè)中儲藏、檢測、實驗、化驗等工序之中。根據(jù)國人的語方表達習(xí)慣也將潔凈室稱為無塵間、無塵房、無塵室、潔凈間、潔凈房、凈化房、凈化室、凈化間、清潔房等等。
 

　　三、潔凈室的組成部分

　　潔凈室的構(gòu)成是由下列各項系統(tǒng)所組成（在所組成的系統(tǒng)分子中是缺一不可的），否則將無法構(gòu)成一完整且品質(zhì)良好的潔凈室。

　　1、圍房構(gòu)建，即組成潔凈室的密封性空間。包括：

　　1)天花板系統(tǒng)：包括吊桿（Ceilingrod）、綱梁（I-Beam或U-Beam）、天花板格子梁（Ceilinggrid或Ceilingframe）。

　　2)隔墻板（Partitionalwall）：包括窗戶、門。

　　3)地板：包括高架地板、防靜電板、環(huán)氧自流坪、PVC凈化地板等。

　　4)室內(nèi)室內(nèi)通道輔件：包括風(fēng)淋室、更衣室、傳遞窗等

　　2、空氣調(diào)節(jié)凈化系統(tǒng)，包括：

　　1)凈化機組、

　　2)過濾器系統(tǒng)

　　3)管道系統(tǒng):風(fēng)管、水管、銅管等

　　3、智能控制部份，包括：

　　1)照明與照明控制

　　2)智能與遠程控制系統(tǒng)

　　四、潔凈室分類

　　潔凈室主要分為工業(yè)潔凈室（無塵）和生物潔凈室（無塵，無菌）

　　工業(yè)潔凈室和生物潔凈室其實都是屬于潔凈室，本質(zhì)上的區(qū)別主要一個是針對無塵，一個針對無菌，兩者主要目的有所區(qū)別，因此在設(shè)計和施工要有所側(cè)重。

　　工業(yè)潔凈室適用于精細機械工業(yè)、電子工業(yè)（半導(dǎo)體、集成電路等）宇航工業(yè)、高純度化學(xué)工業(yè)、原子能工業(yè)、光磁產(chǎn)品工業(yè)（光盤、膠片、磁帶消費）LCD（液晶玻璃）、電腦硬盤、電腦磁頭消費等多行業(yè)。

　　生物潔凈室適用于制藥工業(yè)、醫(yī)院（手術(shù)室、無菌病房）、食品、化裝品、飲料產(chǎn)品消費、動物實驗室、理化檢驗室、血站等。
 

　　五、潔凈室中的溫濕度控制

　　潔凈室的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。

　　例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)最佳溫度范圍為35—45%。