電子潔凈室凈化工程應(yīng)用走向成熟化

　　電子行業(yè)，特別迅速發(fā)展的亞微米工藝對生產(chǎn)場所空氣潔凈度要求特別高，在對潔凈度的提出更高要求方面，電子工業(yè)是促進(jìn)前進(jìn)動力。集成電路光刻工藝的尺寸是推動潔凈室要求向前發(fā)展的決定因素，技術(shù)越進(jìn)步，尺寸就越小，如果落在集成電路上的粒子大于最小尺寸的1%--2%,就會使集成電路成為廢品，金屬粒子、離子、細(xì)菌都是生產(chǎn)廢品的元兇?？諝鉂崈舳鹊暮脡闹苯佑绊戨娐飞a(chǎn)的成品率。

　　同時，對微電子產(chǎn)品的功能要求越高，投資規(guī)模越來越大，就對質(zhì)量水平的要求越來越嚴(yán)格，電子工業(yè)成為世界上越來越大的工業(yè)部門，預(yù)計再近年，電子激光最小的光刻尺寸可達(dá)到0.5微米。微電路存儲量可達(dá)64千兆，世界上大部分在建的潔凈室都用于微電子工業(yè)，每年建造和使用費用可達(dá)百萬美元。